ASML 警告美扩大 DUV 禁令，称或加速中国半导体自主化

据科技新报报道，荷兰半导体设备大厂艾司摩爾（ASML）对美国国会拟推动的《硬體技術管制多邊協調法案》（MATCH Act）表达疑虑，认为若进一步限制其向中国销售深紫外光（DUV）微影设备，可能刺激中国加快本土替代技术研发。