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ASML称客户需求超出2027至2028年计划产能，扩产受制于蔡司光学供应
ASML’s EUV Expansion Runs Through Zeiss
AI 导读
ASML在10月14日季度业绩中表示，客户对其光刻设备的需求已超出公司2027年和2028年的计划供应量，公司正研究在三个月前宣布的扩产之外增加2028年产能。
推荐理由
原文给出ASML在2027至2028年Low-NA EUV与DUV浸没产能各扩约30%的具体口径，以及蔡司光学产能这一制约环节。
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