三星电子 · 官方芯片与产业新闻韩国 · 企业官方 · 产业与经营信息· Samsung Newsroom·· 2026-09-08关注度42 · 仅供参考中性
三星电子与ASML深化High NA EUV合作，计划2028年首次引入该设备用于DRAM量产
Samsung Electronics and ASML Expand Strategic Collaboration for Next-Generation Semiconductor Manufacturing
AI 导读
三星电子与ASML宣布扩大战略合作，共同推进High NA EUV光刻技术及先进半导体制造。三星将加入下一代12英寸光掩模技术行业倡议，并计划于2028年首次在DRAM大规模量产中引入ASML的High NA EUV设备，以扩展DRAM缩放路线图并提升生产效率。
来源：三星电子 · 官方芯片与产业新闻 · news.samsung.com
持续跟进
查看相关主题中的后续进展，或用 RSS 阅读器订阅全部精选。