DIGITIMES 电子时报中国台湾 · 半导体供应链媒体· Yunnie Cheng·· 8 天前AI 评分15
马斯克与黄仁勋：中国光刻机差距有望2030年前追平
Elon Musk, Jensen Huang see China closing lithography gap by 2030
AI 导读
据DIGITIMES电子时报报道，马斯克与黄仁勋认为中国有望在2030年前缩小光刻机领域差距。
来源：DIGITIMES 电子时报 · digitimes.com
Elon Musk, Jensen Huang see China closing lithography gap by 2030
据DIGITIMES电子时报报道，马斯克与黄仁勋认为中国有望在2030年前缩小光刻机领域差距。
来源：DIGITIMES 电子时报 · digitimes.com